Россия планирует завершить создание литографа на 130 нм в 2026 г — замглавы Минпромторга

МОСКВА, 18 сен — РИА Новости. Россия планирует завершить создание литографа, специального оборудования для нанесения рисунка на микросхемы, на 130 нанометров в следующем году, сообщил замглавы Минпромторга РФ Василий Шпак.

Литография в области микроэлектроники представляет собой процесс создания очень мелких структур на поверхности полупроводниковых материалов, которые формируют микросхемы​​​. Такая технология важна для создания, например, микропроцессоров.

В следующем году у нас в планах завершить создание литографа уже на 130 нанометров. Будем двигаться поступательно, — сказал Шпак в эфире радио РБК.

Он напомнил, что первый в России литограф на 350 нанометров уже создан совместно с Белоруссией. Ожидается, что поставка такой продукции на российские фабрики начнется со следующего года.

При перепечатке и цитировании (полном или частичном) ссылка на РИА Новости обязательна. При цитировании в сети Интернет гиперссылка на сайт http://ria.ru обязательна.